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專利重磅授權|無弧+無泄漏電流直流控制技術,徹底解決傳統繼電器方案

2026-04-17 14:04:36

AI算力爆發式增長,高壓直流供電已成為數據中心、算力中心、充電樁等領域的必選路線。但長期以來,拉弧燒蝕、漏電流損耗、成本居高不下、壽命不可控四大難題,始終制約著直流配電的安全與規?;涞亍?/span> 

PDU-07

健思研科技「無弧無泄漏電流半導體繼電器」實用新型專利正式授權!

這項半導體器件(以碳化硅MOS管為例)+直流繼電器復合架構的原創核心技術,一次性解決傳統直流繼電器、真空繼電器的全部缺陷,為高壓直流控制領域帶來真正的 “終極方案”。 

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一、行業困局:兩大主流方案,均有致命短板

目前高壓直流通斷控制,行業只有兩種選擇,卻都無法兼顧安全、壽命與成本:

1. 傳統直流繼電器 

PDU-01

依靠隔弧柵+磁場吹弧,只能減輕拉弧,無法徹底消除

觸點反復燒蝕,老化快、故障率高

關斷存在漏電流,帶來損耗與安全隱患

2. 真空繼電器 

PDU-02

抽真空+充氦氣,工藝復雜,制造成本極高

氦氣價格持續上漲,進一步推高整體成本

密封結構隨時間、振動、老化出現氦氣緩慢泄漏

氣體不足后拉弧急劇加劇,最終燒毀,壽命不可控

二、技術破局:直流繼電器+碳化硅MOS,實現 1+1>2 

PDU-03

我們的專利技術,采用半導體開關 + 機械觸點雙重復合控制,從原理上徹底解決行業痛點:

碳化硅MOS管負責 “無弧通斷”

開關過程完全不拉弧,從根源杜絕觸點燒蝕,直流高壓場景更安全。

直流機械觸點負責 “徹底關斷”

完美解決半導體器件關斷后仍存在反向漏電流的通病,實現真正零泄漏。

最終實現:

無弧 + 無泄漏電流,安全、可靠、長效一步到位。

三、三大碾壓優勢,全面超越傳統方案 

PDU-04

? 徹底無弧、零泄漏,安全拉滿

開關無火花、無觸點燒蝕,關斷無漏電流,高壓直流更安心。

? 成本比真空繼電器低一倍

無需真空腔體、無需氦氣,結構簡潔,規?;渴鸪杀敬蠓陆?。

? 開關壽命提升 2 倍以上

無拉弧損耗、無氣體泄漏風險,壽命遠超傳統與真空方案,長期免維護。

四、全場景落地:從算力中心到充電樁,全覆蓋 

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這項核心技術,將優先全面應用于直流母線智能 PDU,完美適配 AI 算力中心、高密度數據中心的高壓直流供電需求。

同時可無縫適配:

小功率直流充電樁

各類高壓直流配電與管理設備

對電弧、漏電流、壽命要求嚴苛的工業場景

五、搶占先機:專利已授權,量產就緒 

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直流供電時代全面到來,核心技術就是核心競爭力。

健思研科技無弧無泄漏電流半導體繼電器專利已正式授權,技術成熟、可快速量產落地。

誠邀算力中心、集成商、充電樁企業、配電設備廠商提前對接,搶先搭載新一代安全、長壽命、低成本的直流控制方案,共贏下一代供電新生態!

 

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